5月28日消息，根據(jù)wccftech的報(bào)道，雖然此前臺(tái)積電公開(kāi)表示其路線圖上的最尖端制程A16仍將不會(huì)采用High NA EUV光刻機(jī)，但是最新的消息顯示，臺(tái)積電有可能會(huì)修正其既定計(jì)劃，提前導(dǎo)入High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行試驗(yàn)和學(xué)習(xí)。

為了在先進(jìn)制程技術(shù)上重回領(lǐng)先地位，英特爾已經(jīng)率先斥巨資拿下了ASML的首批High NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)先在即量產(chǎn)的Intel 18A制程節(jié)點(diǎn)上進(jìn)行驗(yàn)證和學(xué)習(xí)，然后再將High NA EUV光刻機(jī)應(yīng)用于Intel 14A制程的量產(chǎn)。

相比之下，臺(tái)積電業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)曾公開(kāi)表示，雖然對(duì)High NA EUV能力印象深刻，但設(shè)備價(jià)格超過(guò) 3.5 億歐元（3.78 億美元）。目前的標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)，仍可以支持臺(tái)積電尖端制程的生產(chǎn)到2026年，其最新曝光的尖端制程A16也將會(huì)繼續(xù)采用標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)來(lái)進(jìn)行生產(chǎn)。

不過(guò)，據(jù)《韓國(guó)商報(bào)》報(bào)道，在5月26日的臺(tái)積電“2024年技術(shù)論壇臺(tái)北站”的活動(dòng)上，臺(tái)積電總裁魏哲家罕見(jiàn)沒(méi)有參加，原因是其秘密訪問(wèn)了ASML位于荷蘭的總部。ASML CEO Christopher Fuke和其激光光源設(shè)備供應(yīng)商TRUMPF執(zhí)行長(zhǎng)Nicola Leibinger-Kammüller近日在社群媒體上貼文中披露了魏哲家到ASML拜訪。

這也使得市場(chǎng)傳出消息稱，在英特爾拿下首批幾套的High NA EUV曝光機(jī)之后，魏哲家這次的密訪動(dòng)作就是表達(dá)了也希望能獲得該新設(shè)備的立場(chǎng)。

報(bào)道指出，雖然臺(tái)積電預(yù)計(jì)在A16制程技術(shù)后的產(chǎn)品才考慮采用High NA EUV光刻機(jī)，但是魏哲家密訪ASML總部的動(dòng)作引發(fā)了大家的議論，臺(tái)積電有可能會(huì)修正其原定的計(jì)劃，提前采用High NA EUV光刻機(jī)。不過(guò)，即使臺(tái)積電獲得High NA EUV光刻機(jī)，也不能立刻用到其最新的制程上，需要提前對(duì)新設(shè)備進(jìn)行各種試驗(yàn)與學(xué)習(xí)。