當(dāng)?shù)貢r間3月11日，荷蘭光刻機大廠ASML 和 納米電子和比利時微電子研究中心imec 共同宣布，他們簽署了一項新的戰(zhàn)略合作協(xié)議，專注于研究和可持續(xù)發(fā)展。該協(xié)議為期五年，旨在通過整合 ASML 和 imec 各自的知識和專長，在兩個領(lǐng)域提供有價值的解決方案。首先，開發(fā)推動半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的解決方案，其次，制定專注于可持續(xù)創(chuàng)新的計劃。

根據(jù)協(xié)議顯示，雙方此次合作整合了 ASML 的整個產(chǎn)品組合，重點是開發(fā)高端節(jié)點，使用 ASML 系統(tǒng)，包括 0.55 NA EUV、0.33 NA EUV、DUV 浸沒、YieldStar 光學(xué)計量和 HMI 單光束和多光束技術(shù)。這些工具將安裝在 imec 最先進的試驗線中，并納入歐盟和比利時政府資助的 NanoIC 試驗線，為國際半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)提供最先進的 2nm 以下研發(fā)基礎(chǔ)設(shè)施。研發(fā)的重點領(lǐng)域也將包括硅光子學(xué)、內(nèi)存和先進封裝，為未來基于半導(dǎo)體的AI應(yīng)用在多元化市場中提供全棧創(chuàng)新。

雙方此次合作的一個新領(lǐng)域是為imec研究渠道中的創(chuàng)新理念和活動提供重大資助，這些創(chuàng)新理念和行動帶來了環(huán)境和社會效益。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Christophe Fouquet評論道：“這項協(xié)議標志著ASML和imec之間長期合作的下一步。它標志著我們共同致力于為半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)解決方案，并符合我們投資于技術(shù)和創(chuàng)新的戰(zhàn)略，這將造福整個社會?！?/p>

imec總裁兼首席執(zhí)行官Luc Van den hove表示：“我們很高興能繼續(xù)與ASML保持長期獨特的合作關(guān)系，為行業(yè)提供30多年來最先進的圖案化解決方案。”“ASML完整的產(chǎn)品組合將使我們能夠擴大和進一步成熟我們的試點生產(chǎn)線的能力，為整個半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)提供最先進的研發(fā)，以應(yīng)對人工智能驅(qū)動的技術(shù)進步的挑戰(zhàn)。由于imec非常注重可持續(xù)創(chuàng)新，因此將其明確納入我們的合作關(guān)系是一個很好的補充?！?/p>

ASML對該伙伴關(guān)系的投資得到了芯片聯(lián)合企業(yè)和比利時Flemish政府（用于實現(xiàn)歐盟芯片法案 NanoIC 試點線）以及荷蘭政府（作為歐洲共同利益的重要項目）提供的資金的補充。

NanoIC試驗線的收購和運營由芯片聯(lián)合企業(yè)、歐盟的數(shù)字歐洲（10118366）和地平線歐洲計劃（101183277）以及參與國比利時（Flemish政府）、法國、德國、芬蘭、愛爾蘭和羅馬尼亞共同資助。

在imec提供0.55 NA技術(shù)是荷蘭政府資助的Next Gen-7A 項目（IPCEI22201）的一部分，該項目是歐洲共同利益的重要項目（IPCE）。