9月10日消息，繼英特爾搶先于2024年4月宣布完成業界首臺高數值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻機組裝后，臺積電竹科園區將于 9 月底前引進其首臺高數值孔徑極紫外光刻機，較外界所猜測的年底時間點提前一整個季度。
Digitimes 報道稱，臺積電首部 High NA EUV 設備的購入價格遠低于原定的 3.5 億歐元（注：當前約 27.55 億元人民幣）報價。
據稱，臺積電之所以可以享受折扣，主要是因為 ASML 給出了很大讓步（畢竟臺積電可是超級 VIP），全力協助臺積電進機、調校與技術支援等，加速上線時間點，也就是此臺主要目的為臺積電試用。ASML 對此則表示，不評論單一客戶。
供應鏈表示，隨著未來 3nm 產能滿載與預計 2025 年 Q4 量產的 2nm 制程客戶訂單陸續落袋，臺積電已重啟 EUV 設備拉貨動能，估計此波新單規模約達 70 臺。
臺積電目前已經掌控絕對市場占有率優勢與話語權，也是至今 EUV 設備下單量最多的客戶，再加上是 High NA EUV 最大客戶，臺積電很顯然掌握著與 ASML 的議價優勢。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：[email protected]。