4月19日消息，今天芯片巨頭英特爾宣布，已率先組裝阿斯麥（ASML）的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機，并稱這是其超越競爭對手的重要一步。
去年12月，阿斯麥確認向英特爾交付首臺高數值孔徑極紫外光刻系統，這臺機器的售價高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。
英特爾光刻主管馬克·菲利普斯表示：“我們在決定購買這些設備時就已經認可了它們的價格。如果我們不認為這些設備物有所值，我們根本不會采購。”
此前英特爾CEO基辛格曾表示，該設備將會被應用于1.8nm以下的挑戰。
除了英特爾外，臺積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這款機器，但由于該設備的運輸和安裝可能需要長達六個月的時間，因此英特爾此舉已經領先了對手至少半年。
而英特爾決定要率先采用高數值孔徑極紫外光刻機也并非偶然。
英特爾雖曾參與開發極紫外光刻技術，但在開始使用阿斯麥首款極紫外光刻機上卻晚于其競爭對手臺積電，基辛格也承認，這是一個嚴重的失誤。
菲利普斯也表示：“現在我們已經有了期待已久的新一代極紫外光刻機，我們不想再犯過去的錯誤。”
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