臺積電今天宣布了一個新的制程工藝節點“N4P”——看起來是4nm，但其實是5nm的又一個版本，確切地說是N5、N5P、N4之后的第四個版本、第三個升級版，注重高性能。
臺積電稱，N4P工藝相比最初的N5工藝可提升11％的性能，或者提升22％的能效、6％的晶體管密度，而對比N4可將性能提升6.6％。
此外，N4P工藝會重復使用多層遮罩，因此可大大降低工藝復雜度，加快晶圓生產速度。
臺積電稱，N4P工藝是為客戶5nm工藝平臺產品升級準備的，不但可以最大化挖掘投資價值，還可以更快、更高效地升級N5工藝產品。
臺積電表示，第一款基于N4P工藝的產品預計2022年下半年流片。
臺積電此前披露，N3 3nm工藝將在今年內風險性試產，2022年下半年大規模量產，2023年第一季度獲得實際收入，N3E 2024年量產，N2 2nm 2025年量產。
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