江蘇微導納米科技股份有限公司（以下簡稱“微導納米”）官方消息顯示，喜獲來自某先進半導體芯片制造企業的首個訂單，即將交付首臺用于先進技術節點的原子層沉積（ALD）量產設備。
據微導納米介紹，該產品聚焦全球IC制造市場，為邏輯、存儲等超大集成電路制造提供關鍵工藝技術和解決方案。尤其是在國內尖端半導體芯片制造方面，產品技術可覆蓋45納米到5納米以下技術節點所必需的高介電常數柵氧層ALD工藝需求，填補了該領域無國產設備的空白。
官方消息稱，2020年微導納米自主研發的鳳凰系列ALD薄膜沉積系統成功實現量產化，專用于先進超大集成電路（VLSI）制造所需各類ALD薄膜沉積工藝。微導納米指出，該產品具有強大的材料選擇功能，可提供包括HfO2, ZrO2，Al2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2, La2O3, ZnO, TiN, 以及AlN等多種工藝功能。
微導納米副董事長兼首席技術官黎微明博士表示，期待首臺ALD設備在客戶產線能夠以最快速度順利導入量產，以此為起點和客戶一起建立先進制程開發和制造能力。微導納米還將推出一系列半導體領域ALD技術和裝備，用于邏輯、存儲、特色工藝、化合物半導體等芯片制造。
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