近日，美國商務部工業(yè)安全局（BIS）發(fā)布了一項最終規(guī)則，為BIS的《出口管理條例》（EAR）商務管部管制清單（CCL）添加了六種最近開發(fā)或開發(fā)中的技術(shù)。美國商務部在官網(wǎng)發(fā)文表示，此舉是為了支持關鍵及新興技術(shù)這一國家戰(zhàn)略。

商務部長威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）稱，“關鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟事務中保持技術(shù)領先地位的重要戰(zhàn)略部署。美國商務部已經(jīng)對 30 多種新興技術(shù)的出口實施了管控，我們將繼續(xù)評估和確定未來還有哪些技術(shù)需要管控。”

據(jù)悉，目前列在商業(yè)管制清單上的六項新興技術(shù)具體為以下幾項：

1．混合增材制造 ／ 計算機數(shù)控工具

2．用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術(shù)軟件

3．用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)

4．規(guī)避計算機上身份驗證或授權(quán)控制并提取原始數(shù)據(jù)的數(shù)字取證分析工具

5．用于監(jiān)視和分析通過轉(zhuǎn)接接口從電信服務供應商處獲取的通信及元數(shù)據(jù)的軟件

6．亞軌道航天器

芯片相關技術(shù)首當其沖

不難發(fā)現(xiàn)，美國實施出口管制的六大技術(shù)中，芯片相關技術(shù)首當其沖，包括“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術(shù)軟件”、“用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”兩項。

具體來看，美國出口管制的兩大芯片技術(shù)都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關，尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機的重要性可想而知。

其中，“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維（3D）效應、掩模陰影效應、光照方向效應、遠距離眩光效應、鄰近效應、抗蝕劑中的隨機性效應以及源掩模優(yōu)化有關的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；

而“用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對直徑300 mm的硅晶圓進行切片、打磨和拋光以達到某些標準所需要的技術(shù)，以及盡量減小平坦度（或SFQR）和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體（LLS）。以上兩類技術(shù)都受到國家安全和反恐管制的約束。

眾所周知，目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國際集團（MSCI）和貝萊德集團（BlackRock， Inc．）都是美國公司，其用于打造EUV光刻機的高精技術(shù)也有不少為美國所持有。

在這個關鍵時期挑這兩項技術(shù)進行出口管制，美國想限制的對象是誰，自然不用多說。從目前來看，美國的出口管制對中國市場的影響是巨大的，作為美國芯片相關產(chǎn)品最大的采購國之一，國內(nèi)不少芯片廠商都受到了不小影響。

限制出口，損人不利己

雖然打著“保護本國關鍵及新興技術(shù)”的旗號，美國的出口限制措施實際上卻對多方產(chǎn)生了不利影響。除了需要遵守出口管制法規(guī)的對象以外，任何美國企業(yè)只要設計、測試、制造、開發(fā)、生產(chǎn)或制造任何新管制的產(chǎn)品，并接受外國投資，都必須向美國外國投資委員會（CFIUS）提交強制性備案，如果未提交強制性備案，可能會受到重罰。

這項管制措施的出臺也對美國自身的經(jīng)濟和技術(shù)發(fā)展也產(chǎn)生了重大影響，據(jù)美國信息技術(shù)與創(chuàng)新基金會公布的一份資料顯示，該技術(shù)出口管制法案一些限制性的措施可能會嚴重阻礙美國先進技術(shù)產(chǎn)業(yè)的競爭力，并限制它們的產(chǎn)出、出口和阻礙就業(yè)增長。就如同此前華為收到美國制裁禁令期間，不少美國芯片廠商集體請求恢復對華為的合作，嚴苛的管制和審查不僅沒有讓美國“強大”起來，甚至招來不少反對的呼聲。