俄勒岡州威爾遜維爾，2016 年 6 月 15 日—Mentor Graphics?公司（納斯達克代碼：MENT）今天宣布推出 Tanner Calibre One IC 驗證套件，作為 Tanner? 模擬/混合信號 (AMS) 物理設計環境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用戶群可以輕松使用 Calibre? 驗證工具的所有功能。該套件大大改善了 IC 設計和驗證解決方案，使 Tanner 客戶可以在更為集成的環境中使用 Calibre 物理和電路驗證工具，尤其是在 Tanner L-Edit? 版圖布局環境下時更有優勢。

　　Calibre 是業內領先的物理驗證平臺，符合所有大型 IC 晶圓代工廠的 Sign-off 要求，而且 Tanner Calibre One 驗證套件使用的是相同的 Calibre 設計套件。已經擁有獨立的 Calibre 許可證并考慮使用 Tanner 設計環境的客戶可以繼續使用已有的 Calibre-Tanner 接口。此外，Calibre 和 Tanner AMS IC 設計流程之間的自定義集成為 Tanner IC 設計人員提供了另一種重要的方案，使設計團隊得以訪問所需內容，充滿信心地進入設計的流片階段。

　　“L-Edit 與 Tanner Calibre One 驗證套件無縫交互，使我們版圖布局團隊的效率得到大幅提升，”Sensor Creations Inc.總裁 Stefan Lauxtermann 說道，“我們的客戶非常贊賞我們采用 Calibre 的決定，并且晶圓代工廠的最終 DRC 與我們使用的 Tanner 設計流程之間是一對一的對應關系?！?/p>

　　Tanner Calibre One 驗證套件包括以下產品：

　　·Calibre nmDRC?（層次化設計規則檢查），可確保物理版圖順利投產制造。作為業界領先的工具能夠提供快速的周期時間以及創新的設計規則功能。

　　·Calibre nmLVS?（層次化版圖與電路圖對比），可從電路結構和器件形狀的角度檢查物理版圖是否與電路圖完全一致。它提供了實際器件幾何測量和精密的交互式調試功能，可提高設計人員的生產率，確保驗證準確。

　　·Calibre xRC?（寄生參數提取），可驗證版圖依賴效應不會對設計的電氣性能產生不利影響，從而為全面且準確的布線后分析和仿真提供準確的寄生數據。

　　此外，Calibre RVE? 工具將解決方案整合在一起，提供了圖形結果查看環境，然后通過肉眼快速識別設計問題以及交互選擇 Tanner 版圖與電路圖輸入工具中的相關問題，進而減少調試時間。

　　Tanner IC 設計套件支持在一個完整且高度集成的端到端流程中進行模擬、混合信號和 MEMS 設計。設計人員可在這個統一流程中輸入電路圖，執行模擬和混合信號仿真，然后再對物理設計進行版圖布局。通過 Tanner Calibre One 驗證套件，使用 Tanner IC 流程的每位設計人員能夠以交互方式調用獨立的 Calibre 工具，以進行設計驗證。

　　“有了 Tanner Calibre One，使用 L-Edit 的設計人員提高了信心，確信其流片階段必能成功，”Mentor Graphics 的 Tanner 運營總經理 Greg Lebsack 說道。“令人激動的是，現在，全球的 Tanner 客戶群都可以使用 Calibre 套件中引領業界的主要功能?！?/p>

　　在 2016 年設計自動化大會 (DAC) 上，Tanner EDA 展位（展位號 1828）將展示 Tanner Calibre One 設計流程。

　　如需其他產品信息，請訪問網站：https://www.mentor.com/tannereda/ 和 https://www.mentor.com/calibre