近日國內光刻機產業鏈的企業之一，傳芯半導體公開宣布已經20余項EUV光刻機技術專利，加上此前在激光光源、工作臺、鏡頭等方面所取得的成果，國產EUV光刻機已取得了重大進展，或許數年后國產EUV光刻機就將量產，這正讓ASML后悔莫及。

光刻機之所以難，在于它是集諸多行業的精華于一身，需要諸多產業鏈企業共同配合才能量產，一臺光刻機就有上萬個元件，可以說只是光刻機本身就是一條相當大的產業鏈。

此前清華大學機械工程系朱煜教授帶隊的清華大學研發團隊就已研發出光刻機雙工作臺，由此中國成為全球第二個可以生產雙工作臺的國家；此外激光頭、鏡頭等廠商也陸續生產出先進的組件，各個產業鏈企業的努力正逐漸完善國內的光刻機產業鏈。

此時傳芯半導體公開宣布已經20余項EUV光刻機技術專利，意味著我國在更先進的EUV光刻機技術研發方面也已取得了重大突破。EUV光刻機的技術難度比當前正在攻克的DUV光刻機更大，在更先進的EUV光刻機都已取得技術突破的時候，DUV光刻機量產自然就更沒難度了。

中國在光刻機方面的技術迅速突破，在于此前具有一定的基礎，事實上在1990年代的時候，我國的光刻機技術與海外差距沒有如今那么大，只是后來由于海外光刻機企業的日漸強大，以及當時發展芯片產業時機未到，國產的光刻機產業鏈逐漸凋零，如今經過近十年時間的努力，國內光刻機產業鏈再度打通也就不在話下。

中國在光刻機技術方面的快速突破，已讓ASML感到擔憂，事實上此前在美國的諸多壓力下，ASML的高管就表示限制ASML向中國供應光刻機無助于全球產業鏈的發展，中國遲早能解決光刻機問題。

對于ASML來說，中國市場對它意義重大，2021年和今年一季度中國市場為它貢獻了三分之一的收入，已成為它的最大市場，如此大的市場，當然是ASML不能輕易舍棄的，事實今年一季度在諸多壓力下，ASML就緊急對中國出貨23臺DUV光刻機，更計劃在中國增加200名員工，以更好地為中國客戶服務，取得更多市場。

ASML另一重擔憂則是中國光刻機技術的快速發展，可能成為它的競爭對手，中國制造此前的事實一再證明，只要中國取得突破的技術，那么量產的產品往往比海外競爭對手的便宜許多，在成本方面ASML根本就不是中國同行的競爭對手。

中國除了繼續研發光刻機之外，還在研發無需光刻機的芯片制造工藝，這方面已有日本做出示范，日本企業研發的NIL工藝就無需光刻機并已給日本存儲芯片企業鎧俠采用，證明了無需光刻機也能生產芯片，而日本預計NIL工藝可用于5nm芯片的生產，如果這一工藝得到推廣對ASML更是滅頂之災。

這些消息都無不讓ASML如鯁在喉，所以美國方面一再施加壓力，但是ASML卻一直都認為限制DUV光刻機沒有多大意義，DUV光刻機已是多年前就已成熟的技術，中國在DUV光刻機方面的進展將會更快，如今中國在EUV光刻機技術上的進展如此迅速，顯示出中國不僅在DUV光刻機技術方面進展迅速，在更先進的EUV光刻機技術方面同樣很快。

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