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芯片供應鏈國產率:光刻機1%,EDA 5%,涂膠顯影機5%,光刻膠7%

2022-08-11
來源:互聯網亂侃秀

眾所周知,在芯片產業鏈上,其實全球是分工協作,充分發揮著全球一體化作用的,比如EDA看美國,半導體材料看日本,光刻機看ASML……

但美國卻在其中,不斷的使用禁令,割裂芯片供應鏈,讓芯片產業實現不了全球一體化,以達到自己在芯片上壟斷全球、收割全球的目的,比如不準ASML的EUV光刻機賣到中國大陸,不準先進工藝的設備,賣到中國大陸……

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所以我們發展芯片產業,與其它親美的國家和地區不一樣,別的地區可以依賴全球的產業鏈,來發展自己的,EDA、光刻機、設備、材料等都不受限。

而我們則必須整個國產產業鏈崛起,實現國產替代,只要一些關鍵環節無法實現國產替代,就會被卡脖子。

那么當前在比較重要的環節,我們的國產替代率,究竟達到了多少,哪個環節國產率最低,哪些環節國產率最高?

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芯片制造分為三個主要環節,分別是設計、制造、封測。其中封測由于門檻相對較低,所以基本上我們已經能夠實現國產替代,不怕被卡脖子。

但在設計與制造方面,國產化方面,卻還是有一點距離的。如上圖所示,這是同花順發布的一份報告中的圖片。

在設計領域,不說架構、IP等,僅設計芯片的EDA工具,國產替代率就僅為5%左右,另外的95%還得依賴國外的EDA。

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而在制造領域,半導體設備這一塊,像關鍵的光刻機,國產替代率僅為1%,涂膠顯影機的國產替代率僅為5%,其它各設備,絕大部分的國產替代率均在10%以下,只有單晶爐達到了30%。

而在半導體材料這一塊,大家發現光刻膠國產替代率只有7%,掩膜板只有10%,電子特氣也只有12%,絕大部分材料的國產替代率僅在20%上下。

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可見,在設計、制造這一塊,國產替代率還有很大的提升空間。正如前面所言,也許其它的國家和地區,不需要和美國對抗,不需要什么產業鏈都靠自己,依托全球先進的產業鏈即可。

但我們可不行,必須各方面都崛起,才能在芯片上不被卡脖子,所以大家加油吧,要走的路還有很長,還需要艱苦奮斗。



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