據財聯社消息，美光總裁暨執行長梅羅特拉（Sanjay Mehrotra）5月26日表示，中國臺灣中科新廠啟用后，美光將會導入先進性1a nmDRAM制程生產以及最先進的極紫外光（EUV）設備。

　　公開資料顯示，EUV制程采用波長為10-14nm的極紫外光作為光源的光刻，相較于將蝕刻液噴灑在半導體表面，利用蝕刻液與半導體基底化學反應的DUV，蝕刻的各向異性明顯改善，對于精確度要求較高的集成電路，EUV使電路分辨率和良率得到極大提升。

　　簡單而言，利用EUV設備生產DRAM，將極大的提高產能、良率，并降低成本。這也使得EUV的爭奪愈加白熱化。

　　基于EUV技術對DRAM技術節點的好處，三星、SK海力士和美光這三大DRAM廠商已先后進入了EUV DRAM市場。

　　三星

　　三星率先引入了EUV。2020 年3月，三星率先使用極紫外（EUV)光刻技術，同年10月便開始批量生產基于EUV的14nm DRAM。在此過程中，三星將其最先進的14nm DDR5上的EUV層數從兩層增加到了五層DRAM工藝。

　　2021年11月，三星表示，其已經應用EUV技術開發了14nm 16Gb低功耗雙倍數據速率5X (LPDDR5X) DRAM，專門用于5G、人工智能(AI)、機器學習(ML)和其他大數據終端應用等高速率應用。此外，該公司還發布了其首個支持新型計算快速鏈接(Compute ExpressLink,CXL) 互連標準的DRAM內存模塊，并發布了專為自主電動汽車和高性能信息娛樂系統設計的2GB GDDR6和2GB DDR4汽車DRAM。

　　今年2月，三星官方表示其基于極紫外（EUV）光刻技術的1z-nm工藝的DRAM已完成了量產。業界消息顯示，三星還將繼續為下一代DRAM增加EUV步驟，其三星的P3工廠也將采用EUV工藝生產10nm DRAM。

　　SK海力士

　　SK海力士引入EUV是在2021年。2021年2月，SK海力士完成首個用于DRAM的EUV晶圓廠M16，正式引入了EUV光刻設備。2021年7月，SK海力士宣布量產了1a nm工藝的8千兆的LPDDR4 EUV DRAM。

　　官方消息顯示，與第三代1z nm內存芯片相比，1a技術在相同的晶圓面積下，生產的芯片數量可以增加25%。此外，202年SK海力士還發布了據稱是業界性能最高的DDR5 DRAM，作為海力士的第三代高帶寬內存，該芯片被稱為HBM3。

　　美光

　　對比前兩家的早早加碼EUV，美光方面則稍晚一些。據外媒此前消息，美光計劃從2024年開始，將EUV納入DRAM開發路線圖。美光在2021年推出了其1a nm內存節點DRAM，推出時該工藝依舊未使用EUV光刻技術，美光稱其存儲密度比之前的1z nm節點DRAM 提高40%。

　　今年5月26日，美光表示，將在中國臺灣中科新廠啟用后導入最先進的極紫外光（EUV）設備或用來生產1a nm DRAM制程。這是否是制程升級給美光帶來了新的壓力，我們不得而知。但是可以確定的是，三大DRAM廠商EUV競爭已進一步升級。