5月23日消息，據(jù)報道，近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪時表示，盡管中國在努力推動芯片的自給自足，但中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必要的基礎(chǔ)設(shè)施不足，比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)，發(fā)展先進制程的芯片制造技術(shù)將非常困難。

約翰遜指出，“我認為中國也非常想發(fā)展自己的EUV(極紫外光刻)能力和相關(guān)的生態(tài)系統(tǒng)(比如EUV光刻膠)。但坦率地說，我認為他們要做到這一點非常困難。”

實際上，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)CEO溫彼得也在今年1月表達過和約翰遜類似的觀點，認為“中國不太可能復(fù)制出頂尖的EUV光刻機”。但他當時補充稱，永遠別那么絕對，中國的物理定律和全世界是一樣的，“他們肯定會嘗試”。

另外，對于中國在光刻膠領(lǐng)域的追趕，以及希望在高端光刻膠技術(shù)上的突破，約翰遜認為，即便中國獲得相關(guān)化學(xué)成分的確切資料，但在純度、精度及制造上都非常困難，且中國也沒有供應(yīng)鏈支持。但中國當前積極投資成熟的芯片技術(shù)，也是不容忽視的一部分，“人們還沒充分意識到，中國有多少機會可以不依賴這些先進制程?！?/p>

資料顯示，JSR公司成立于1957年，中文名為日本合成橡膠，是全球主要的光刻膠供應(yīng)商之一。在應(yīng)用方面，光刻膠是半導(dǎo)體、液晶面板(LCD)、印刷電路板(PCB) 等產(chǎn)業(yè)的重要原材料。

在半導(dǎo)體領(lǐng)域，目前光刻機曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線(365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV)，相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生，對應(yīng)分別為，G 線光刻膠、I 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

目前，在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，主要被日本合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、美國杜邦、日本信越化學(xué)、富士電子、羅門哈斯等頭部廠商所壟斷，其中JSR占據(jù)了28%的市場。

而在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，JSR在ArF光刻膠領(lǐng)域以24%的市場份額位居全球第一。在EUV光刻膠方面，TOK和JSR有較高的份額。

從國內(nèi)的光刻膠市場來看，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技術(shù)之一。

至于EUV光刻膠，由于美國的阻撓，大陸目前無法進口EUV光刻機，因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起。