據今日公布的一項調查顯示，芯片行業的高管們越來越樂觀地認為，該行業將采用極端的紫外線光刻技術和多波束掩模。新系統將有助于推動先進設備的發展，而這一時代正變得越來越復雜和昂貴。

75個半導體照明機構的調查中有75％表示，他們預計EUV將在2021年之前在大批量生產中被采用。只有1％的人表示EUV將不會被接受，低于去年的6%，而這個比例在2014年則高達35%。

“在我看來，毫無疑問， EUV將在未來幾年內開始采用7nm+進程。”Aki Fujimura說，他是一名行業資深人士，也是eBeam協會的發言人，該組織在夏季進行了這項調查。

英特爾、三星和積電對EUV開發商ASML進行了數十億美元的投資，后者轉而收購了光源制造商Cymer，推動復雜且昂貴的技術向前發展。Fujimura說:“在過去的幾年里， 7和5納米難以實現的問題被過多談論了，每一個人都認為這或許是整個行業的麻煩。” Fujimura是D2S的首席執行官，D2S是使用gpu來加速面具缺陷修復的系統制造商。

這種轉變并不容易。芯片制造商預計將在現有的浸入式步進器中啟動7nm進程，然后將一些步驟遷移到EUV設備上，以減少對多模式的需求。

EUV是如此新穎，需要在機器和生態系統上投入如此多的資金來支持它，以至于你不能一步到位。Fujimura說:“你必須要比這更循序漸進地引入它。而不是一開始就讓EUV做全部的事情。” Fujimura在1979年開始了自己的職業生涯，在他的職業生涯中，他有三次創業經歷，包括兩次Cadence Design系統設計。

在過去的12個月里，掩膜制造商創造了1041個EUV掩膜，高于一年前的382個。另一項針對10位頂級設備制造商的調查顯示，EUV掩膜的產量僅為64.3%。

Fujimura說:“我把這么低的產量歸因于創業公司的收益。有人可能會說，這一數字高達64.3%，令人吃驚。”